1 東京大学大学院工学系研究科化学システム工学専攻Department of Chemical System Engineering, The University of Tokyo ◇ 〒113–8656 東京都文京区本郷7–3–1
2 東京大学大学院工学系研究科総合研究機構Institute of Engineering Innovation, The University of Tokyo ◇ 〒113–8656 東京都文京区弥生2–11–16
用途の拡大に伴い，ゼオライトには高い耐久性が求められている。ハイシリカゼオライトに対し，追加のシリル化剤等を使用せずに簡便な液相処理を施すことで，ゼオライト中のシラノール欠陥の数を大幅に減らし高耐久化することに成功した。高耐久化されたゼオライトはこれまでのシリケート系多孔質材料の常識を覆し，1150°Cという高温の水蒸気に曝されても，その結晶化度とミクロ孔容積を保持した。処理後のサンプルには特異的な内部空隙が存在し，シリケート種のマイグレーションによる欠陥修復メカニズムが考えられた。本手法は他の構造へも展開可能であり，種々のゼオライトの高耐久化手法として期待される。
High stability is required for zeolites due to their expanding applications. We have succeeded in reducing the number of silanol defects in high-silica zeolites by a simple liquid-mediated method without using additional silylating agents, thereby making the zeolites more stable. The stabilized zeolite retained its crystallinity and micropore volume even when exposed to steam at a high temperature of 1150°C. The treated samples have unique internal voids, which may be a defect repair mechanism due to the migration of silicate species. This method can be extended to other structures and is expected to be used for the stabilization of various zeolites.
キーワード：スチーム耐性；シラノール欠陥；後処理；ハイシリカゼオライト
Key words: steam resistance; silanol defects; post-synthetic treatment; high-silica zeolites
© 2021 一般社団法人日本ゼオライト学会© 2021 Japan Zeolite Association
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